半導體生產(chǎn)過(guò)程中的某些工藝涉及氣體與半導體基片的反應，比如沉積工藝和刻蝕工藝，氣體的流量將對工藝結果產(chǎn)生重要影響。為了使生產(chǎn)的半導體獲得較高的良品率，必須對流入反應腔室的氣體流量進(jìn)行精確控制，尤其是隨著(zhù)半導體工藝集成度的不斷提高，對氣體流量的誤差要求也進(jìn)一步提高。
因而隨著(zhù)真空、半導體等領(lǐng)域對微小氣體流量控制的需求，熱式質(zhì)量流量傳感器因其高精度的特點(diǎn)被廣泛采用。相比體積流量測量方式，熱式質(zhì)量流量傳感器不依賴(lài)介質(zhì)密度變化，避免了環(huán)境溫度變化帶來(lái)的測量偏差。熱式質(zhì)量流量傳感器主要由毛細管、熱源、溫度傳感器三部分組成，氣體經(jīng)過(guò)上游熱源并帶走熱量，使下游熱源初始溫度變化，通過(guò)溫度傳感器獲取上下游熱源溫差，此溫差與流體質(zhì)量流量成線(xiàn)性關(guān)系。工采網(wǎng)推薦使用瑞士IST 熱式質(zhì)量流量傳感器 - MFS02。
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滬公網(wǎng)安備31010802001143號
