近年來(lái),隨著(zhù)個(gè)人電腦的普及和互聯(lián)網(wǎng)的快速發(fā)展,數字移動(dòng)通信業(yè)務(wù)轉向個(gè)人通信,引發(fā)了傳統通信的革命和多媒體通信業(yè)務(wù)的出現,刺激了光通信業(yè)務(wù)的快速發(fā)展。但是與大規模的集成電路相比,光互連中用于實(shí)現光路由和光交換的光器件由于體積小、空間有限、功能單一,在應用上受到很大限制,因此在很多光通信模塊中仍然需要進(jìn)行大量的電光轉換。
著(zhù)深紫外光刻技術(shù)在納米光子器件制作中的應用使得光學(xué)器件的尺寸大大減小,同一光子集成電路中可以集成更多的光學(xué)器件。將晶體管封裝在芯片上的傳統工藝被稱(chēng)為“深紫外光刻”(DUV),這是一種類(lèi)似于攝影的一種技術(shù)。通過(guò)透鏡聚焦光線(xiàn),在硅片上雕刻電路圖案,利用極紫外(EUV)光在硅片上雕刻,使存儲芯片有類(lèi)似的存儲容量增加。
在集成電路制造的推動(dòng)下,光刻技術(shù)取得了長(cháng)足的進(jìn)步。從抽象層面來(lái)說(shuō),光刻系統包括以下幾個(gè)部分:輻射源、輻射控制系統、光刻膠和樣品。為了獲得更小的光刻圖形,要求用于光刻的光源具有更小的特征光波波長(cháng),光源要有足夠的強度,以實(shí)現快速曝光和批量生產(chǎn)。
為了解決光刻強度的問(wèn)題,目前工業(yè)上廣泛使用準分子激光。準分子激光是深紫外光譜中最亮的光源。一般準分子激光獲得的光波波長(cháng)有248nm、193nm、157nm。準分子激光以多模形式強烈發(fā)射,空間相干性相對較弱,光刻精度可達100nm以下。
想要確保紫外光刻機發(fā)出的紫外線(xiàn)強度適中就需要對紫外光進(jìn)行監測,紫外線(xiàn)傳感器和紫外光電二極管是可以檢測紫外線(xiàn)強度的元件,可以用于檢測紫外光刻過(guò)程中紫外線(xiàn)的能量情況,工采網(wǎng)技術(shù)工程師推薦以下幾款:
韓國GENICOM 紫外線(xiàn)傳感器 - GUVA-T11GD-L,具有良好的可見(jiàn)盲,光伏模式操作,高響應,低暗電流,應用于全UV波段監控,UV-A燈監控,可廣泛應用于:紫外線(xiàn)強度檢測和控制,UV指數檢測。
德國SGLUX 紫外光電二極管 - SG01D-C18具有極其特別的優(yōu)點(diǎn),能承受高強度的輻射,對可見(jiàn)光幾乎不敏感,產(chǎn)生的暗電流低,響應速度快,可以長(cháng)期工作在高達170℃的溫度中。
韓國GENICOM 可見(jiàn)光傳感器 - GVGR-T10GD,芯片小于0.4mm,TO-46封裝,使用的銦鎵氮材料,內含PN型光電二極管,光伏模式操作,高響應,低暗電流。